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EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 10/LS 10

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 10/LS 10

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  • 简介:卡尔 蔡司 Zeiss EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 10/LS 10 ***光学,可见光学和电子光学的***。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和ZEISS。1965年推出优异台商业化扫描电镜;1985年推出上优异台数字化扫描电镜...

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 卡尔•蔡司Zeiss EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 10/LS 10
光学,可见光学和电子光学的***。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和ZEISS。1965年推出台商业化扫描电镜;1985年推出上台数字化扫描电镜。EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。MA 10用于材料领域,LS 10用于生命科学领域。该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术的物镜设计,提供高低真空成像功能,可对各种材料表面作分析,并且具有业界的X射线分析技术。革命性的Beamsleeve的设计,确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像,同时还可以进行准确的能谱分析。样品台为五轴全自动控制。标准的率无油涡轮分子泵能够满足快速的样品更换和无污染(免维护)成像分析。
 
用途:
 
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。
 
技术参数:
 
分辨率:2.0nm @ 30KV(SE with Lab6 option)  3.0nm @ 30KV(SE and W)  4.5nm @ 30KV(VP with BSD)
加速电压:0.2—30KV
放大倍数:7—1000000x
视野范围:6mm
X-射线参数:8.5mm WD,35度接收角
压力范围:10—400Pa(LS10:10-3000Pa)
工作室:310mm(φ)×220mm(h)
5轴优中心自动样品台:X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°
较大试样高度:100mm  试样较大直径:200mm
系统控制:基于Windows XP 的SmartSEM
 
主要特点:
 
可变压力下操作
超大移动平台
快速抽真空
未来的保证,可升为水蒸气扩展图像
高亮度LaB6资源选择
光线套选择
 
技术优势:
 
通过网络可远程控制
可移动大平台
通用图像处理
改进了低真空图像
业界的X-射线分析技术

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